CVD（化學氣相沉積）和 HPHT（高壓高溫）是在實驗室環境中培育實驗室鑽石的兩種不同方法。
CVD 鑽石是由氣體混合物（通常是甲烷和氫氣）生長而成，這些氣體被分解成碳原子，並透過稱為化學氣相沉積的過程沉積到基材上。與高溫高壓鑽石相比，所得鑽石往往更純淨，雜質更少。
另一方面，高溫高壓鑽石是透過模仿地球深處存在的高壓和高溫條件而形成的。將鑽石原料放入壓機中並經受高壓和高溫條件，使碳原子重新排列成鑽石晶體結構。高溫高壓鑽石外觀上往往與天然鑽石更相似，通常用於需要高耐用性的應用。
總之，CVD 鑽石是透過化學過程生長的，往往更純淨且雜質更少，而 HPHT 鑽石是透過物理過程生長的，在外觀上往往與天然鑽石更相似。