CVD (Chemical Vapor Deposition) dan HPHT (High Pressure High Temperature) adalah dua metode berbeda dalam menumbuhkan berlian di laboratorium.
Berlian CVD tumbuh dari campuran gas (biasanya metana dan hidrogen) yang dipecah menjadi atom karbon dan diendapkan ke substrat dalam proses yang dikenal sebagai pengendapan uap kimia. Berlian yang dihasilkan cenderung lebih murni, dengan lebih sedikit pengotor, daripada berlian HPHT.
Di sisi lain, berlian HPHT dibentuk dengan meniru kondisi tekanan dan suhu tinggi yang ada di dalam Bumi. Material berlian mentah dimasukkan ke dalam mesin pres dan mengalami tekanan dan suhu tinggi, yang menyebabkan atom karbon tersusun ulang menjadi struktur kristal berlian. Berlian HPHT cenderung lebih mirip dengan berlian alami dan sering digunakan dalam aplikasi yang membutuhkan daya tahan tinggi.
Singkatnya, berlian CVD tumbuh melalui proses kimia dan cenderung lebih murni dan memiliki lebih sedikit kotoran, sedangkan berlian HPHT tumbuh melalui proses fisik dan cenderung lebih mirip tampilannya dengan berlian alami.