CVD（化学气相沉积）和HPHT（高压高温）是在实验室环境下培育钻石的两种不同方法。
CVD 钻石由混合气体（通常是甲烷和氢气）生成，这些气体分解成碳原子，并通过化学气相沉积工艺沉积在基底上。与 HPHT 钻石相比，CVD 钻石往往更纯净，杂质更少。
另一方面，HPHT 钻石是通过模拟地球深处的高压和高温条件形成的。将钻石原料放入压机中，并经受高压和高温条件，使碳原子重新排列成钻石晶体结构。HPHT 钻石的外观往往与天然钻石更相似，通常用于需要高耐用性的应用中。
总而言之，CVD钻石是通过化学过程生长的，往往更纯净，杂质更少，而HPHT钻石是通过物理过程生长的，外观往往与天然钻石更相似。